Diskussion:EUV-Lithografie

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Letzter Kommentar: vor 2 Jahren von Cepheiden in Abschnitt Weiterentwicklung
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Zusammenführung mit Fotolithografie

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Dieser Artikel sollte IMHO in den Hauptartikel Fotolithografie übernommen werden - als alleinstehender Artikel ist er etwas mager. --Afrank99 09:42, 30. Apr 2006 (CEST)

Ich empfind den Artikel nicht als mager, da gibt es tausende andere Artikel die kleiner sind. Ich bin gegen eine Zusammenführung. Wenn alle Fotolithografie-Verfahren in einen Artikel gesteckt werden würden, dann wäre das ein riesiger Artikel. Es sollte auch beachtet werden das die Artikel noch wachsen, evtl auch endlich noch Bilder und Grafiken dazu kommen. --Cepheiden 12:25, 30. Apr 2006 (CEST)
Der Artikel ist in der Tat etwas mager. Da aber XUV-Lit. das zukuenftige Lithografie-Verfahren ist, sollte der Artikel alleine stehen bleiben und ausgebaut werden. Viellleicht werde ich in den naechsten Tagen an eine Bearbeitung machen --Daramos 05:07, 21. Okt. 2007 (CEST)Beantworten
Hoffentlich ist meine Meinung auch als nicht Autor ein wenig relevant: als interessierter Laie habe ich ich mich gefreut den Artikel zu finden und ich fände es schade, wenn es nur einen allg. Lithografie-Artikel gäbe. Von daher: auch gegen eine Zusammenführung! (nicht signierter Beitrag von 109.193.131.122 (Diskussion) 19:04, 10. Dez. 2010 (CET)) Beantworten
Die Diskussion ist 3 Jahre alt. Ich denke die Idee ist längst vom Tisch. --Cepheiden 19:46, 10. Dez. 2010 (CET)Beantworten
Dieser Abschnitt kann archiviert werden. -- Cepheiden 19:46, 10. Dez. 2010 (CET)

EUV-System von ASML

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nach meinem Kenntnisstand hat die Firma ASML ein EUV-System vorgestellt. Dieses wurde bereits von Intel bestellt. (sulki 26-01-10) (13:46, 26. Jan. 2010 (CET), Datum/Uhrzeit nachträglich eingefügt, siehe Hilfe:Signatur)

Naja, angekündigt wird da viel, auch einiges bestellt, aber ausgeliefert und nachweislich im Einsatz sind nur Prototypen, die nicht für die Produktion einsetzbar sind. Vielleicht kommt ja 2010 das Preproduction Tool. Vielleicht auch nicht. [1] -- Ukko 23:53, 26. Jan. 2010 (CET)Beantworten
ASML hat definitiv ein System das mit EUV arbeitet. Ich habe hier nach der Firma gesucht die es herstellt und habe da leider nichts gefunden. Ich könnte da vielleicht etwas zu schreiben ... allerdings natürlich *keine* Firmengeheimnisse. Ich weiß aber nicht wo das hingehört. Macht man da eine neue Seite auf? -- Björn Anger 11:04, 28. Aug. 2011 (CEST)Beantworten
Wer wenn nicht ASML ist die Firma, die das System von ASML herstellt? Einen eigenen Artikel, gar einen eigenen Abschnitt halte ich für ein solches Produkt für übertrieben. Zudem sollten wenn schon unbedingt Hersteller genannt werden sollen, nicht nur ein Hersteller genannt werden.--Cepheiden 14:19, 28. Aug. 2011 (CEST)Beantworten
Sämtliche Beleuchtungs- und Projektionsoptiken die ASML in ihren Systemen verbaut, werden von der Carl Zeiss SMT in Oberkochen, Baden Württemberg hergestellt. Und die Summe an Herstellern ist sehr überschaubar. ASML, Canon und Nikon. Für EUVL Systeme sind es dann sogar nur noch zwei..-- 21:00, 15. Nov. 2011 (CEST) (ohne Benutzername signierter Beitrag von 79.242.51.25 (Diskussion) )
Firma Cymer liefert die EUV-Strahlungsquelle an ASML: http://hardware-infos.com/news.php?news=3203
Das Pre-Production-Tool funktioniert übrigens: http://www.fabtech.org/news/_a/imec_fires-up_asmls_nxe3100_euv_lithography_tool_with_xtreme_light_source/
(nicht signierter Beitrag von Juri S. (Diskussion | Beiträge) 18:49, 16. Nov. 2011 (CET)) Beantworten


Ja, das ist bei den Immersionstools von ASML nicht anders. Aber dennoch es geht hier um Systeme und nicht um Teilkomponenten. Andernfalls wäre es als wenn man sagt ein Automobilzulieferer wie Infineon oder Bosch ist Hersteller von Autos. ASML ist keine Firma, die nur das Label auf den Produkten anderer ändert. Also wo soll diese Diskussion hingehen? --Cepheiden 19:42, 16. Nov. 2011 (CET)Beantworten

Ich glaube, das ist gar keine Diskussion, sondern lediglich ein Austausch von Informationen. :-) --Juri S. 21:07, 16. Nov. 2011 (CET)Beantworten

Lithographie-System von Zeiss

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Das optische Teilsystem stammt von Zeiss, nicht wie im Artikel angedeutet von ASML. Tatsächlich stellt ASML die Waferstepper her, die "Heirat" der Systeme wird dann sozusagen innerhalb einer strategischen Partnerschaft von Zeiss und ASML durchgeführt. Meiner Meinung nach sollte Zeiss als Entwickler und Hersteller, insbesondere im Abschnitt "EUV-Lithografiesysteme" genannt werden. https://www.zeiss.de/semiconductor-manufacturing-technology/maerkte-partner/strategische-partnerschaft.html (nicht signierter Beitrag von 80.138.211.142 (Diskussion) 12:12, 10. Nov. 2018 (CET))Beantworten

Witz?

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Dieser Artikel ist ein Scherzartikel, oder? Selbst wenn es - theoretisch - möglich wäre, eine derartige Anlage zu bauen, wenn man ein paar Trillionen Euro ausgibt, so würde diese allein auf Grund der Unwucht der Erdrotation doch nur Ausschuss produzieren. Tipp: Verlagert die Produktion in den Weltraum. Da gibt es das Vakuum gratis und es kommt niemand auf die Idee und will sich so eine Anlage mal ansehen. Das Beste kommt aber im verlinkten Artikel der FAZ: "Das Stromsparen werde ein wichtiges Thema sein, erwartet er mit Blick auf die riesigen Serverfarmen, die heute von den Internetriesen schon möglichst nah am Nordpol gebaut werden, wo es kühl ist und der Strom billig." Hallo Alpha hier spricht Erde. --Rohi (Diskussion) 05:31, 13. Mär. 2020 (CET)Beantworten

Du wirst lachen, Samsung und TSMC nutzen das Verfahren in Produktion für Produkte in 7-nm-Technik. ASML bietet die Anlagen für ca. 150 Mio. € an (denk ich jedenfalls). Der Artikel ist leider nicht aktuell. Der Kommentar zu Serverfarmen in kälteren Gebieten hat nicht soviel mit EUV-Lithografie zu tun ist aber auch kein Witz, das wird bereits praktiziert. Natürlich nicht in Grönland, Spitzbergen oder noch weiter nördlichen Gebieten mit schlechter Infrastruktur, sondern in Island. --Cepheiden (Diskussion) 20:47, 13. Mär. 2020 (CET) P.S. Ein paar Links [2] [3] [4]Beantworten

Ich habe wohl paar Jahrzehnte verschlafen. Darum habe ich ein Video eingefügt, wo die Technik mal gezeigt wird. Nur eines würde mich noch interessieren: An Island dachte ich auch, kalt, Geothermie (in manchen Quellen werden schon Gezeitenkraftwerke erwähnt). Wie ist Island denn ans Internet angebunden, dass Google den Traffic hinbekommt? Unterseekabel? Satellit? Finnland und Schweden nehmen die ja auch schon. Google eröffnet Rechenzentrum im kalten Hamina Da muss ich wohl als nächstes den Artikel über die Arktis aufbessern. Ich habe versucht, ASML zu kontaktieren, ob die paar gemeinfreie Fotos hätten, um den Artikel aufzuhübschen. Die haben nicht mal eine Emailadresse! Ich glaube, ich bin im falschen Film. --Rohi (Diskussion) 17:00, 14. Mär. 2020 (CET)Beantworten

Ein User namens "Verzettelung" hat sich die Mühe gemacht, sämtliche meiner Ergänzungen, hier und bei der Arktis, einfach so zu löschen. Es wäre "kein enzykoplädischer Stil". Heiße ich Brockhaus oder was? Die Mühe, mich zu kontaktieren, um mich auf eventuelle sprachliche Fehler hinzuweisen, hat sich der Herr nicht gemacht. Ich habe mal viel von der Wikipedia gehalten, aber wenn man so behandelt wird, sehe ich mich außerstande, hier noch was beizutragen. Wenn die jeden hier so behandeln, dann brauchen die sich nicht wundern, wenn die Wikipedia den Bach runter geht. Ich verstehe nämlich was von Sprache. Ich habe drei Jahre Latein gelernt, kann ziemlich gut Englisch, kann kyrrillisch lesen und beherrsche noch einige Brocken aus anderen Sprachen. Ich habe auch mal die Sprachfibel vom Reiners durchgearbeitet. Ich versuche, allgemeinverständlich zu schreiben und kein Akademikerdeutsch, das man nur versteht, wenn man einen Dr. vor seinem Namen trägt, obwohl ich es auch verstehe. Wie Luther sagt: "Dem Volk aufs Maul schauen." Oder wie Schopenhauer sagt: "Wer etwas Sagenswertes zu sagen hat, braucht es nicht in preziöse Ausdrücke, schwierige Phrasen und dunkle Anspielungen zu verhüllen. Er kann es einfach, deutlich und naiv aussprechen, und dabei sicher sein, dass es seine Wirkung nicht verfehlen wird." Wenn meine Beiträge schon abgelehnt werden, dann könnt Ihr es vergessen, dass es sich irgendein Normalbürger traut, hier noch irgendwas beizutragen. Dann wäre der Grundgedanke der Wikipedia, das Wissen vieler zu sammeln, verraten. Dann wird das hier irgendsoein komischer Intellektuellenclub. Einfach so löschen. Ihr solltet unbedingt an Eurer Komunikationsstruktur arbeiten. Es war mir eine Ehre. --Rohi (Diskussion) 05:07, 16. Mär. 2020 (CET)Beantworten

Schade, dass durch diese Erfahrung ein Autor verprellt wurde. Ich muss auch ehrlich sagen, dass ich den Einwand gegen deine Änderung zwar teilweise verstehe, aber eine andere Lösung wie Umformulierung besser gefunden hätte. --Cepheiden (Diskussion) 22:24, 19. Mär. 2020 (CET)Beantworten

Weiterentwicklung

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@PaulAsimov: Schaust du bitte nochmal deine Ergänzung aus Spezial:Diff/217265104/219502134 durch? Was sollen "Inkaufnahme von Geschwindigkeitsverlusten" sein und was sollen die Nutzer aus dem Satz überhaupt mitnehmen? --Cepheiden (Diskussion) 22:56, 24. Jan. 2022 (CET)Beantworten

Hallo Cepheiden! Danke für Deine Nachfrage. Nach meinem Kenntnisstand ist High-NA EUV durch die Herstellung noch kleinerer Strukturen langsamer als das ursprüngliche EUV-Verfahren - auch wenn mit den neuartigen Linsen versucht wird, diesen Nachteil auszugleichen. Falls Du eine bessere Formulierung kennen solltest, die das ohne Aufblähen anreißt, freue ich mich sehr! Viele Grüße, --PaulAsimov (Diskussion) 12:55, 25. Jan. 2022 (CET)Beantworten
Hallo PaulAsimov, ja ganz konkret erschließt sich mir nicht was eine "Inkaufnahme" sein soll. Grüße --Cepheiden (Diskussion) 15:07, 30. Jan. 2022 (CET)Beantworten