Diskussion:Tetrachlorsilan

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Letzter Kommentar: vor 7 Jahren von Zanglerecke in Abschnitt Verwendung in der Halbleiterindustrie hinzufügen?
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Kritische Temperatur

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Kritische Temperatur = 234 °C und Kritischer Druck = 3,7 MPa können nicht in die neue Chembox übernommen werden. Viele Grüße --Orci Disk 20:55, 6. Jun. 2007 (CEST)Beantworten

Ätzend

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Siliciumtetraclorid ist Ätzend(Corrosive),nicht einfach nur Reizend

ps. und die UN nummer ist 1818 --Sickboy1985 16:02, 17. Feb. 2009 (CET) (nicht signierter Beitrag von Sickboy1985 (Diskussion | Beiträge) 03:57, 17. Feb. 2009 (CET)) Beantworten

Die EU-Einstufung ist reizend. --Leyo 11:22, 12. Mai 2009 (CEST)Beantworten

Verwendung in der Halbleiterindustrie hinzufügen?

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Über den Zusammenhang

H2 + SiCl4 <-> SiCl2 + HCL und 2 SiCl2 <-> Si + SiCL4

wird es verwendet um in einem Prozess ein Substrat zu reinigen und direkt danach Silizium abzuscheiden (kontrolliert durch Mischungsverhältnis mit H2) (nicht signierter Beitrag von 85.180.74.97 (Diskussion) 22:08, 7. Apr. 2012 (CEST)) Beantworten

Steht im letzten Satz, Abschnitt "Eigenschaften". --Mabschaaf 22:14, 7. Apr. 2012 (CEST)Beantworten


Außerdem wird es zum Ätzen in Reaktiven Ionen (RIE) Ätzen als precurser gas eingesetzt. (z.B. für InGaAs InAlAs GaAs und InP). (refer to http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0167931799000970) --Zanglerecke (Diskussion) 17:13, 31. Jan. 2017 (CET)Beantworten