Monofluorsilan

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Strukturformel
Strukturformel von Monofluorsilan
Keile zur Verdeutlichung der Geometrie
Allgemeines
Name Monofluorsilan
Andere Namen

Fluorsilan

Summenformel SiH3F
Kurzbeschreibung

farbloses Gas[1]

Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer 13537-33-2
EG-Nummer 236-909-6
ECHA-InfoCard 100.033.539
PubChem 66390
Wikidata Q16712763
Eigenschaften
Molare Masse 50,11 g·mol−1
Aggregatzustand

gasförmig

Dichte

2,048 g·l−1[1]

Schmelzpunkt

−98,6 °C[2]

Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung
keine Einstufung verfügbar[3]
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet.
Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0 °C, 1000 hPa).

Monofluorsilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der Silane.

Gewinnung und Darstellung

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Monofluorsilan kann durch Reaktion von Fluormethan mit Silicium[4] oder Reaktion von Silylmethylether mit Bortrifluorid[5] oder Reaktion von Monochlorsilan mit Antimon(III)-fluorid gewonnen werden.[6]

Monofluorsilan ist ein farbloses Gas.[1] Es besitzt als Feststoff bei 96 K eine monokline Kristallstruktur mit der Raumgruppe P21/n (Raumgruppen-Nr. 14, Stellung 2)Vorlage:Raumgruppe/14.2 und geht bei Normaldruck direkt in den gasförmigen Zustand über.[7]

Monofluorsilan kann zur Herstellung von Siliciumschichten verwendet werden.[8]

Einzelnachweise

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  1. a b c William M. Haynes: CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93rd Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4398-8050-0, S. 87 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  2. Dale L. Perry: Handbook of Inorganic Compounds, Second Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4398-1462-8, S. 179 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  3. Dieser Stoff wurde in Bezug auf seine Gefährlichkeit entweder noch nicht eingestuft oder eine verlässliche und zitierfähige Quelle hierzu wurde noch nicht gefunden.
  4. Han-Gook Cho: Investigation of Reaction Paths from Si + CH4 to C + SiH4 and from Si + CH3F to C + SiH3F: Intrinsic Reaction Coordinate Studies. In: Journal of the Korean Chemical Society. 60, 2016, S. 149, doi:10.5012/jkcs.2016.60.2.149.
  5. Advances in Inorganic Chemistry and Radiochemistry. Academic Press, 1961, ISBN 978-0-08-057852-1, S. 236 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  6. C. C. Addison: Inorganic Chemistry of the Main-Group Elements. Royal Society of Chemistry, 1973, ISBN 978-0-85186-752-6, S. 188 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  7. A. J. Blake, E. A. V. Ebsworth, S. G. D. Henderson, A. J. Welch: Structure of silyl fluoride, SiH3F, at 96 K. In: Acta Crystallographica Section C Crystal Structure Communications. 41, S. 1141, doi:10.1107/S0108270185006904.
  8. Akihisa Matsuda, Kiyoshi Yagii, Takao Kaga, Kazunobu Tanaka: Glow-Discharge Deposition of Amorphous Silicon from SiH3F . In: Japanese Journal of Applied Physics. 23, 1984, S. L576, doi:10.1143/JJAP.23.L576.